Kupferpulver
Metallpulver

Kupferpulver

Wasser- und gasatomisierte Kupferpulver für Pulvermetallurgie, Reibmaterialien und Lötanwendungen.

Wasser- & gasatomisierte Kupferpulver

MEPOSO produziert Kupferpulver mit modernsten Atomisierungsverfahren. Standardqualitäten reichen von weniger als 45 bis 500 Mikron und sind in kugeliger, dendritischer und unregelmäßiger Morphologie für jeden industriellen Bedarf erhältlich.

Mit über 35 Jahren Erfahrung bieten wir Standard- und Sonderqualitäten, die auf Ihre spezifischen Anforderungen zugeschnitten sind. Unsere Produktionsprozesse gewährleisten gleichbleibende Qualität, hohe Reinheit und ausgezeichnete Chargen-zu-Chargen-Reproduzierbarkeit.

Wasseratomisiert
Gasatomisiert
Sonderqualitäten verfügbar
Hohe Reinheit (≥99,5%)
Kugelig & dendritisch
45 – 1000 μm Bereich
Produktbroschüre herunterladen (PDF)
Copper Powders

Kupferpulver-Qualitäten

Unser umfassendes Sortiment an atomisierten Kupferpulvern deckt alle wesentlichen industriellen Anforderungen ab. Jede Qualität ist für spezifische Anwendungen optimiert und in verschiedenen Korngrößenverteilungen erhältlich.

CU-SF-

CU-SF-

Gas Atomized
Zusammensetzung Cu >99.5%
Partikelform Spherical
Schüttdichte 3.8 – 5.8 g/cm³
Korngröße <45 – 1000 μm
CU-EP-

CU-EP-

Water Atomized
Zusammensetzung Cu >99.5%
Partikelform Dendritic
Schüttdichte 0.7 – 3.0 g/cm³
Korngröße <45 – 315 μm
COPPER WM

COPPER WM

Water Atomized
Zusammensetzung Cu 99.5%
Partikelform Irregular
Schüttdichte 2.5 – 3.5 g/cm³
Korngröße <45 – 700 μm
CU-NI-

CU-NI-

Gas Atomized
Zusammensetzung Cu + Ni 0.5–5%
Partikelform Spherical
Schüttdichte 4.5 – 5.5 g/cm³
Korngröße <45 – 315 μm
COPPER PHOSPHORUS-CUP

COPPER PHOSPHORUS-CUP

Water / Gas Atomized
Zusammensetzung Cu + P 6–15%
Partikelform Irregular / Spherical
Schüttdichte 2.5 – 4.5 g/cm³
Korngröße <45 – 700 μm
CUPRONI

CUPRONI

Gas Atomized
Zusammensetzung Cu + Ni 10–20%
Partikelform Spherical
Schüttdichte 3.5 – 5.5 g/cm³
Korngröße <45 – 700 μm

Technische Zusammenfassung

Übersicht aller Kupferpulver-Qualitäten. Kundenspezifische Spezifikationen und Korngrößenverteilungen auf Anfrage.

Qualität Zusammensetzung Form Dichte (g/cm³) Korngröße (μm) Verfahren
CU-SF- Cu >99.5% Spherical 3.8 – 5.8 <45 – 1000 Gas atomized
CU-EP- Cu >99.5% Dendritic 0.7 – 3.0 <45 – 315 Water atomized
COPPER WM Cu 99.5% Irregular 2.5 – 3.5 <45 – 700 Water atomized
CU-NI- Cu + Ni 0.5–5% Spherical 4.5 – 5.5 <45 – 315 Gas atomized
CU PHOSPHORUS-CUP Cu + P 6–15% Irregular / Spherical 2.5 – 4.5 <45 – 700 Water / Gas atomized
CUPRONI Cu + Ni 10–20% Spherical 3.5 – 5.5 <45 – 700 Gas atomized

Industrielle Anwendungen

Unsere Kupferpulver bedienen ein breites Spektrum an Branchen und Anwendungen weltweit.

Pulvermetallurgie

Diamantwerkzeuge

Reibmaterialien

Strukturbauteile

Katalysatoren

Bronze-Sinterteile

Lötpasten

Elektrische Kontakte

Copper powder microscopy

Gleichbleibende Qualität & individuelle Lösungen

Jede Charge Kupferpulver durchläuft strenge Qualitätskontrollen einschließlich Korngrößenverteilungsanalyse, Schüttdichtemessung, Fließratentests und chemischer Zusammensetzungsprüfung.

Unser technisches Team arbeitet eng mit Kunden zusammen, um Sonderpulverqualitäten zu entwickeln, die für spezifische Fertigungsprozesse optimiert sind. Ob Sie einen engen Korngrößenschnitt, eine bestimmte Morphologie oder eine maßgeschneiderte Legierungszusammensetzung benötigen – wir liefern.

ISO 4497 Siebanalyse
ISO 3923-1 Dichte
REM-Morphologie
Chemische Analyse

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Individuelles Kupferpulver benötigt?

Unser technisches Team kann Kupferpulver-Sonderqualitäten nach Ihren genauen Spezifikationen entwickeln. Kontaktieren Sie uns für eine Beratung.

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